SiC エピタキシャルウエハー
パワー半導体向けSiC エピタキシャルウエハーです。
長年培ってきた高精度研磨技術と特徴のあるCMPにより当社のSiC エピタキシャルウエハーは、お客様のSiCデバイスの生産性向上に貢献します。
長年培ってきた高精度研磨技術と特徴のあるCMPにより当社のSiC エピタキシャルウエハーは、お客様のSiCデバイスの生産性向上に貢献します。
貴社に合わせた材料活用方法を提案します
SiC エピタキシャルウエハーの特徴
当社SiC エピタキシャルウエハーには下記の特徴があります。
- 高精度研磨技術による高い平坦性
- 特徴のあるCMPによるウエハー表面潜傷の最小化
- SiCデバイスの生産性の向上に貢献
用途例
・xEV用パワー半導体モジュール向け製品
・鉄道車両用パワー半導体モジュール向け製品
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ABOUT US
持続可能な社会を支える高機能材料会社
売上収益
1兆332億円
全従業員数
21,456人